臺積 再搶近半EUV曝光機

臺積 再搶近半EUV曝光機

臺積電及三星之EUV曝光機採購量

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晶圓代工龍頭臺積電(2330)全力衝刺5奈米及3奈米先進邏輯製程產能,並擴大采購關鍵的極紫外光(EUV)曝光機。據外媒報導,艾司摩爾(ASML)2022年EUV曝光機出貨量預估將達51~55臺,其中臺積電取得22臺最多,等於穩坐擁有全球最大EUV產能半導體廠寶座。

在地緣政治競爭下,各國積極扶植本土半導體產業的先進製程技術研發及產能布建,EUV機臺成爲關鍵設備。法人看好EUV生態系統未來扮演關鍵角色,包括極紫外光光罩盒(EUV Pod)供應商家登、EUV設備模組代工廠帆宣、精密零組件供應商公準,EUV晶圓真空吸盤供應商意德士等直接受惠。

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由於先進邏輯製程由5奈米推進到3奈米,單片晶圓EUV光罩層數倍增,至於DRAM廠也開始在1a奈米後導入EUV技術量產,因此包括臺積電、三星、英特爾、SK海力士、美光等半導體大廠,已開始爭相搶奪關鍵的EUV曝光機。業界人士指出,只要取得EUV曝光機就等於在先進製程市場居於不敗之地。

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根據外媒消息,ASML預計2021年EUV曝光機出貨48臺,其中臺積電拿下22臺,三星拿下15臺。至於2022年預計EUV曝光機出貨51~55臺,臺積電取得22臺,三星將取得18臺。業界分析,臺積電來說,2017~2022年共拿下84臺EUV曝光機,佔ASML累計出貨量逾半,這也是臺積電得以在7奈米及5奈米等先進製程市場獨佔鼇頭的原因。

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臺積電於今年技術論壇中指出,以EUV曝光機的累計裝機數量來看,到2020年已佔全球總機臺數量的50%,2020年爲止採用臺積電EUV技術生產的晶圓,佔累計EUV曝光晶圓數的65%。以臺積電2021~2022年採購量來看,EUV曝光機累計裝機數量佔全球總機臺數量比重將持續過半。

臺積電EUV曝光機裝機數量大躍進,也代表未來幾年在3奈米及2奈米等先進製程市場持續維持領先地位。臺積電指出,隨着製程推進至5奈米,每片晶圓採用EUV光罩層大幅拉昇,臺積電預估2021年EUV光罩護膜產能將是2019年的20倍。業界預期2022年進入3奈米世代,EUV光罩護膜產能將呈現等比級數增加,穩坐擁有全球最大EUV產能半導體廠寶座。

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